JF-2型勞厄晶體分析儀能夠提供穩(wěn)定的X射線光源,特點(diǎn)是利用可控硅和集成電路自動控制系統(tǒng)進(jìn)行調(diào)流調(diào)壓,從而獲得一個強(qiáng)而穩(wěn)定的射線光源.該機(jī)射線發(fā)生器功率大,整機(jī)穩(wěn)定性高,操作簡單,可靠性強(qiáng),防護(hù)完善,可與各種射線照相機(jī)一起構(gòu)成X射線晶體分析儀,或用于其他用途的X射線光源.，廣泛用于冶金,機(jī)械,電子,化工,地質(zhì),,能源,等科研、企業(yè)、大專院校.
  該X射線晶體分析儀，主要用于研究物質(zhì)內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)。如：單晶定向、檢驗(yàn)缺陷、物質(zhì)定性、測定點(diǎn)陣參數(shù)、測定殘余應(yīng)力等。

  主要參數(shù)：

電 源	AC220V 50HZ 30A
功 率	2 KW
靶 材	Cu（可選其他靶材）
管電壓	50 KV（分檔可調(diào)）
管電流	50 mA（分檔可調(diào)）
穩(wěn)定度	±1%
保 護(hù)	過功率、過電壓、過電流、無水
冷 卻	循環(huán)水、制冷水箱
防 護(hù)	鉛有機(jī)玻璃與金屬結(jié)構(gòu)防護(hù)罩
相 機(jī)	A：德拜相機(jī)（粉沫相機(jī)）大、小兩種;) B:勞厄相機(jī)（平板相機(jī)） （相機(jī)裝底片 ；暗室洗底片）上述兩種相機(jī)，用戶可自行選配置